Nickeldisilicid

chemische Verbindung

Nickeldisilicid ist eine anorganische chemische Verbindung des Nickels aus der Gruppe der Silicide.

Kristallstruktur
Struktur von Calciumfluorid
__ Ni     __ Si
Allgemeines
Name Nickeldisilicid
Verhältnisformel NiSi2
Kurzbeschreibung

graublauer Feststoff[1][2]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 12201-89-7
EG-Nummer 235-379-3
ECHA-InfoCard 100.032.151
Wikidata Q18211996
Eigenschaften
Molare Masse 114,86 g·mol−1
Aggregatzustand

fest[3]

Dichte

4,83 g·cm−3[4]

Schmelzpunkt

1200 °C[4]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung [3]
08 – Gesundheitsgefährdend 07 – Achtung 09 – Umweltgefährlich

Gefahr

H- und P-Sätze H: 350i​‐​372​‐​317​‐​410
P: ?
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen.

Gewinnung und DarstellungBearbeiten

Nickeldisilicid kann durch Reaktion von Nickel mit Silicium bei 750 °C gewonnen werden.[5]

 

EigenschaftenBearbeiten

Nickeldisilicid ist grau blauber Feststoff.[1][2] Er ist ein Halbleiter und besitzt eine Kristallstruktur vom Fluorittyp mit der Raumgruppe Fm3m (Raumgruppen-Nr. 225)Vorlage:Raumgruppe/225.[6] Die Verbindung hat einen Widerstand von etwa 34 bis 50 µΩ/cm.[7]

VerwendungBearbeiten

 
HAADF-Abbildung der Grenzfläche zwischen Silicium (unten) und epitaktischem Nickeldisilicid (oben).

Nickeldisilicid wird als Kontaktmaterial in der Halbleiterindustrie verwendet.[8] Die Gitterabstände der Verbindung ist nur 0,4 % kleiner als die von Silicium.[9]

Verwandte VerbindungenBearbeiten

Neben Nickeldisilicid sind mit Ni3Si, Ni31Si12, Ni3Si2, Nickelmonosilicid (NiSi) und Dinickelsilicid (Ni2Si) mindestens fünf weitere bei Raumtemperatur stabile Nickelsilicide bekannt. Das Phasendiagramm zeigt insgesamt elf Nickelsilicide.[10][7]

EinzelnachweiseBearbeiten

  1. a b scielo.org.za: Aspects of coloured precious metal intermetallic compounds (Memento des Originals vom 7. Juli 2016 im Internet Archive)  Info: Der Archivlink wurde automatisch eingesetzt und noch nicht geprüft. Bitte prüfe Original- und Archivlink gemäß Anleitung und entferne dann diesen Hinweis.@1@2Vorlage:Webachiv/IABot/www.scielo.org.za, abgerufen am 7. Juli 2016
  2. a b Open Publications of UTS Scholars, Supansomboon, S: Properties and applications of metastable precious metal intermetallic compounds, abgerufen am 7. Juli 2016
  3. a b Eintrag zu Nickeldisilicid in der GESTIS-Stoffdatenbank des IFA, abgerufen am 23. Juli 2016 (JavaScript erforderlich).
  4. a b Dale L. Perry: Handbook of Inorganic Compounds. CRC Press, 1995, ISBN 978-0-8493-8671-8, S. 13 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  5. B.A Julies, D. Knoesen, R. Pretorius, D. Adams: A study of the NiSi to NiSi2 transition in the Ni–Si binary system. In: Thin Solid Films. 347, 1999, S. 201, doi:10.1016/S0040-6090(99)00004-8.
  6. Jane E. Macintyre: Dictionary of Inorganic Compounds. CRC Press, 1992, ISBN 978-0-412-30120-9, S. 3669 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  7. a b Yoshio Nishi, Robert Doering: Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition. CRC Press, 2007, ISBN 978-1-4200-1766-3, S. 18 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  8. Johann-Friedrich Luy, Peter Russer: Silicon-Based Millimeter-Wave Devices. Springer Science & Business Media, 2013, ISBN 978-3-642-79031-7, S. 74 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  9. Inder P. Batra: Metallization and Metal-Semiconductor Interfaces. Springer Science & Business Media, 2012, ISBN 978-1-4613-0795-2, S. 216 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).
  10. William M. Haynes: CRC Handbook of Chemistry and Physics, 94th Edition. CRC Press, 2016, ISBN 978-1-4665-7115-0, S. 77 (eingeschränkte Vorschau in der Google-Buchsuche).